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科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積

科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積

分類：公司新聞
發布時間：2019-01-10
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【概要描述】金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點，成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。

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科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積

【概要描述】金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點，成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。

分類：公司新聞
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科民ALD實現高質量依(Ir)單質沉積

　　金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點，成功實現高質量單質銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。

SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD設備

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